標(biāo)樂:機(jī)械+化學(xué)作用下的拋光應(yīng)用
有多少金相工程師曾因?yàn)檐浗饘偌捌浜辖鸬炔牧系慕鹣鄻悠返闹苽涠鴤噶诵,永遠(yuǎn)拋不掉的劃痕不禁都使人有砸了磨拋機(jī)的沖動(dòng)。粗磨、精磨、粗拋、精拋,一步不差,但怎么也得不到好的效果,這也是常規(guī)機(jī)械拋光后我們總會(huì)反思的問題。
越軟、延展性越好的材料,在機(jī)械拋光作用下,劃痕越難去除,越容易被掩蓋。在機(jī)械+化學(xué)作用下拋光理論的提出,才使得這些疑難逐漸被破解。
機(jī)械+化學(xué)作用拋光應(yīng)用案例
鋁及鋁合金樣品
鋁及鋁合金的制備工藝已經(jīng)比較成熟,我們都知道其關(guān)鍵步驟在于最終拋光時(shí)選擇的PH值在10~10.5的氧化硅拋光液。在堿性環(huán)境下鋁會(huì)發(fā)生微弱的化學(xué)反應(yīng),在機(jī)械的協(xié)同作用下,對(duì)劃痕的拋光效率和質(zhì)量都大大提高。我們常用的氧化鋁拋光液同樣也可以作為終拋介質(zhì),但單純機(jī)械作用的效果遠(yuǎn)不如機(jī)械+化學(xué)作用下的效果。
氧化鋁拋光后表面偏黃,仍然觀察到許多細(xì)微的劃痕;氧化硅拋光后表面光潔清晰無劃痕,由于其較高的PH值也使得硅相更清晰明顯。
鈦及鈦合金樣品(鋯及鋯合金)
我們都知道,鈦及其鈦合金的磨拋制備,其終拋過程是較特殊,也是最關(guān)鍵的,常用的氧化鋁拋光會(huì)可能造成劃痕的掩蓋,氧化硅堿性環(huán)境拋光又無法拋動(dòng)劃痕去除損傷,所以我們通常會(huì)將氧化硅與雙氧水以5:1的配比進(jìn)行混合后作為最終拋光液,效果明顯。
耐火材料
除了軟金屬,非金屬材料也有著相關(guān)的應(yīng)用,例如耐火材料,耐火材料多以巖礦或氧化物作為主要組成部分,其中某些組分堅(jiān)硬如陶瓷,不僅耐磨,且易碎,這就形成了研磨拋光過程中的矛盾點(diǎn),粗顆粒的金剛石(15μm、9μm)去除效率高,但破碎嚴(yán)重;細(xì)顆粒的金剛石(3μm、1μm)不造成破碎,但去除效率又極低。
標(biāo)樂針對(duì)例如:藍(lán)寶石、玻璃、氧化物、氮化硅、陶瓷、金屬/陶瓷復(fù)合等硬且易碎的材料設(shè)計(jì)了一款氧化鐵拋光液,其也是一款機(jī)械+化學(xué)協(xié)同作用的拋光液,效果顯著。
研磨及粗拋后留下較嚴(yán)重的破碎,1μm金剛石對(duì)其去除效率低,所以推薦在3μm金剛石拋光后直接通過氧化鐵來拋光去除破碎痕跡。
(責(zé)任編輯:金利儀器lyh)