聚光科技ICP-MS（等離子體質(zhì)譜分析儀）自2020年全力推進(jìn)半導(dǎo)體領(lǐng)域，近期，部分產(chǎn)品（科學(xué)儀器）實(shí)現(xiàn)集成電路制造頭部企業(yè)測(cè)試，目前產(chǎn)品穩(wěn)定運(yùn)行。

 

公司于2015年分拆自身質(zhì)譜業(yè)務(wù)成立子公司譜育科技。譜育科技已掌握多個(gè)質(zhì)譜分析技術(shù)平臺(tái)，針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)檢測(cè)需求，推出一系列高精度檢測(cè)儀器及在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，助力行業(yè)突破“卡脖子”關(guān)鍵技術(shù)。

 

半導(dǎo)體產(chǎn)品制造過(guò)程分為晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕等八大步驟，涉及硅片、電子氣體、光掩模、光刻膠配套化學(xué)品等多類制造材料。統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，半導(dǎo)體元件制造業(yè)中約50%的產(chǎn)率損失是由產(chǎn)品及材料制造流程中的微量雜質(zhì)污染導(dǎo)致。

 

ITRS（國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)線路圖）提出，在超純水、電子化學(xué)品、電子特氣、晶圓制造環(huán)境等各個(gè)環(huán)節(jié)，均需進(jìn)行嚴(yán)格的環(huán)境污染管控及污染物檢測(cè)；如何將污染降低到最小是半導(dǎo)體制程過(guò)程提升良率的難點(diǎn)。半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中涉及的化學(xué)品種類繁多、測(cè)試元素種類眾多且檢測(cè)精度要求ppt量級(jí)，都對(duì)設(shè)備性能及操作人員的污染控制技術(shù)提出苛刻要求。另外，隨著半導(dǎo)體器件的尺寸不斷縮小、芯片中元件的密度不斷增加，生產(chǎn)過(guò)程中的污染控制也愈發(fā)嚴(yán)格。

 

ICP-MS技術(shù)尤其四極桿型ICP-MS技術(shù)具備極低的檢測(cè)限和快速多元素測(cè)定功能，已逐漸成為半導(dǎo)體行業(yè)污染分析實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)，在硅片表面雜質(zhì)分析、超純水、超純?cè)噭┓治觥⒏呒儦怏w分析等多個(gè)方面應(yīng)用廣泛。目前，半導(dǎo)體行業(yè)所使用的ICP-MS基本被美國(guó)及日本廠商壟斷。

 

聚光攜子公司打破海外行業(yè)壟斷

 

聚光科技旗下高端科學(xué)儀器創(chuàng)新平臺(tái)杭州譜育科技發(fā)展有限公司（簡(jiǎn)稱“譜育科技”）深耕高端科學(xué)儀器創(chuàng)新，在高端質(zhì)譜領(lǐng)域積累了離子阱、四極桿、三重四極桿、飛行時(shí)間等多個(gè)質(zhì)譜分析技術(shù)平臺(tái)。已建立半導(dǎo)體潔凈實(shí)驗(yàn)室（100級(jí)），在2021年相繼推出了冷模式ICPMS以及三重四極桿ICPMS/MS,兩款設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)亞ppt級(jí)別的超痕量金屬檢測(cè)，打破了海外廠商對(duì)超痕量金屬測(cè)試設(shè)備的壟斷。此外，公司針對(duì)14nm、28nm等高端制程半導(dǎo)體企業(yè)開(kāi)發(fā)的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)得到了各級(jí)集成電路基金的支持，其中一部分產(chǎn)品已經(jīng)完成研發(fā)，處于樣板點(diǎn)建立階段。

 

基于譜育科技的研發(fā)實(shí)力，聚光科技成立半導(dǎo)體事業(yè)部，整合自身質(zhì)譜、光譜、色譜等高精密檢測(cè)分析技術(shù)，以及各類進(jìn)樣技術(shù)和軟件算法等綜合能力，推出一系列解決方案，覆蓋了痕量/超痕量金屬污染檢測(cè)、潔凈室AMC在線監(jiān)測(cè)、蝕刻劑近紅外分析、特氣監(jiān)測(cè)與預(yù)警等半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈精密檢測(cè)分析領(lǐng)域。